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二酸化ケイ素（SiO2）
ゾルゲル法で合成したナノサイズのシリカ粒子が水中に分散した材料で、多様な機能を活かし、幅広い分野で使用されています。
■粒子径 数10nm～200nm 程度で粒子径制御が可能
■形状 粒子の会合度（球状～異形）を制御可能
■pH が中性～アルカリ性で安定分散/一部製品は酸性化でも安定分散
■凝集、沈降しにくい
●電子基板材料（シリコンウエハ、ガラス基板等）の研磨材
●半導体CMP スラリー
●各種コーティング材
●触媒バインダー
●インクジェット用紙
●その他
