パソコン、携帯電話をはじめとする電子機器は、より薄くより小さく、さらに軽量を目指しています。そして、その原動力となるのは、LSI（大規模集積回路）の多層化・高集積化による半導体デバイスの超小型化、ディスク面の超平滑化などの電子部品の精度の追求です。

1987年から研究開発に取り組んできた超高純度コロイダルシリカは、シリコンウェハーのファイナルポリッシングスラリーの主原料としてトップシェアを確保。この技術はナノレベルの精度が要求されるCMP（化学的機械的平坦化）分野でメモリやＣＰＵなどの中枢部品の多層化・高集積化に活かされています。
また、今日まで培ってきた独自技術・ノウハウをさまざまな工業用途に活かすFUSOは、機能性化学品分野においても独自のポジションを確立しています。
特殊な反応技術、精製技術、環境対策など、精密化学薬品製造の優れた独自技術により、化粧品、医薬品、プラスチックなどの分野向けにファインケミカル中間体を幅広く製品化。これらの製品群の開発・製造には、多量の高圧ガスや危険物を取り扱うための安全管理のノウハウ、特殊・高圧反応技術、精製技術、環境対策などの高度な製造技術を必要とします。FUSOではこれらに関する有能な技術者を活かし、また、特殊生産設備を効率的に利用して責任をもって業務に当たっています。